新一代Integral T過程恆溫器，可在-30至150°C的溫度範圍內進行專業的外部溫度控制，快速的冷凍時間,最適合使用在濃縮機,反應槽,X-RAY,半導体製程。由於具有適當的加熱和冷卻能力，且內部容積較小，因此這些裝置可實現快速的溫度變化。 由於開放式液壓系統，該裝置可快速排氣，而不受功能限制。